近7日售出专利35个
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本发明提供了一种半导体元件蚀刻液及其制备方法。蚀刻液组分包括:碘、碘化钠、碘化铵、羧甲基壳聚糖、季戊四醇、山梨醇、铵盐、正丁醇、乙醇、维生素C、BHT、山梨酸钾、水。其制备方法为先将碘、季戊四醇、山梨醇、BHT、正丁醇和乙醇混合搅拌5-10分钟,得溶液A;将碘化钠、碘化铵、羧甲基壳聚糖、铵盐、维生素、山梨酸钾和水混合搅拌5-10分钟得溶液B;将溶液A和B混合,加热至30-40℃,搅拌20-30分钟即得。本发明的蚀刻液蚀刻速度快,精度高,蚀刻均匀性强;且制备方法简单,易控制,易于工业化生产,生产成
买家 | 身份证 | 企业营业执照 企业组织机构代码证 |
专利代理委托书 专利权转让协议 办理文件副本请求书 发明人变更声明 |
专利证书 手续合格通知书 专利登记簿副本 |
卖家 | 身份证 专利证书原件 |
企业营业执照 专利证书原件 |
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客服确认选择专利的交易信息和价格并支付相应款项办理转让材料
协助双方准备相应材料签订协议
协助卖家签订协议办理备受手续
买卖双方达成一致后交易完成
交易完成可投入使用总部位于北京,已布局成都、广州、杭州、武汉等城市
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